阅读说明：本技术 一种金属掩膜板及其制备方法 (Metal mask plate and preparation method thereof ) 是由 李晓凯 兰兰 于 2018-06-07 设计创作，主要内容包括：本发明公开了一种金属掩膜板及其制备方法。所述金属掩膜板的制备方法包括：提供掩膜板基材；在所述掩膜板基材的第一侧减薄所述中间部中的第一区域,所述第一区域包括所述非显示区；在所述第一侧形成所述至少一个显示区内的多个像素开孔。本发明实施例提供的技术方案,使得形成的金属掩膜板中显示区与周围区域强度之差减小,金属掩膜板在张网过程中产生褶皱的几率降低,金属掩膜板的张网精度得到提高。(The invention discloses a metal mask plate and a preparation method thereof. The preparation method of the metal mask plate comprises the following steps: providing a mask plate base material; thinning a first region in the middle part on a first side of the mask substrate, wherein the first region comprises the non-display region; a plurality of pixel openings in the at least one display area are formed at the first side. According to the technical scheme provided by the embodiment of the invention, the intensity difference between the display area and the surrounding area in the formed metal mask plate is reduced, the probability of generating wrinkles of the metal mask plate in the screen stretching process is reduced, and the screen stretching precision of the metal mask plate is improved.)

一种金属掩膜板及其制备方法

技术领域

本发明实施例涉及金属掩膜板的制备技术，尤其涉及一种金属掩膜板及其制备方法。

背景技术

有机发光显示装置具有自发光无需背光、可实现柔性显示、宽广视角以及高色彩饱和度等优点，被广泛应用于各种电子设备中，备受用户青睐。

有机发光显示装置的制备过程中，蒸镀材料通过金属掩膜板的掩遮而蒸镀至基板上像素对应位置处，形成有机发光功能层。金属掩膜板包括与后续形成的显示基板的显示区对应的显示区，该显示区内设置有多个像素开孔，导致显示区的强度低于周围区域的强度，使得在金属掩膜板的张网过程中，金属掩膜板显示区和其他区域强度不同，易产生褶皱，尤其对于具有异形显示区的金属掩膜板，上述问题会更加突出。

发明内容

本发明提供一种金属掩膜板及其制备方法，以减小形成的金属掩膜板中显示区与周围区域强度之差，降低金属掩膜板在张网过程中产生褶皱的几率，提高金属掩膜板的张网精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种金属掩膜板的制备方法，所述金属掩膜板的制备方法包括：

提供掩膜板基材，所述掩膜板基材包括中间部以及分别位于所述中间部相对两侧的第一边缘部和第二边缘部，所述中间部包括至少一个显示区和非显示区，所述至少一个显示区所在区域分别与所述第一边缘部和所述第二边缘部距离最近的边为第一边和第二边，所述第一边位于所述中间部与所述第一边缘部的交界线上，所述第二边位于所述中间部与所述第二边缘部的交界线上；

在所述掩膜板基材的第一侧减薄所述中间部中的第一区域，所述第一区域包括所述非显示区；

在所述第一侧形成所述至少一个显示区内的多个像素开孔，以形成所述金属掩膜板。

第二方面，本发明实施例还提供了一种金属掩膜板，所述金属掩膜板采用第一方面所述的金属掩膜板的制备方法形成。

本发明实施例提供的技术方案，通过在掩膜板的第一侧减薄中间部中的第一区域，其中第一区域包括非显示区，并在第一侧形成至少一个显示区内的多个像素开孔，使得形成的金属掩膜板中显示区与周围区域强度之差减小，金属掩膜板在张网过程中产生褶皱的几率降低，金属掩膜板的张网精度得到提高。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种金属掩膜板的制备方法的流程示意图；

图2是本发明实施例提供的一种掩膜板基材的俯视示意图；

图3是沿图1中虚线AB的剖面结构示意图；

图4是沿图1中虚线CD的剖面结构示意图；

图5是本发明实施例提供的一种金属掩膜板的俯视示意图；

图6是沿图5中虚线EF的剖面示意图；

图7是沿图5中虚线GH的剖面示意图；

图8是沿图5中虚线EF的又一种剖面示意图；

图9为沿图5中虚线EF的又一种剖面示意图；

图10为沿图5中虚线EF的又一种剖面示意图；

图11是本发明实施例提供的又一种掩膜板基材的俯视示意图；

图12是本发明实施例提供的又一种掩膜板基材的俯视示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。在更加详细地讨论示例性实施例之前应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项操作(或步骤)描述成顺序的处理，但是其中的许多操作可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项操作的顺序可以被重新安排。当其操作完成时所述处理可以被终止，但是还可以具有未包括在附图中的附加步骤。所述处理可以对应于方法、函数、规程、子例程、子程序等等。

图1是本发明实施例提供的一种金属掩膜板的制备方法的流程示意图。本实施例中的金属掩膜板的制备方法用于制备蒸镀有机发光显示装置中发光功能层时采用的金属掩膜板。如图1所示，所述金属掩膜板的制备方法具体可以包括如下：

步骤1、提供掩膜板基材，所述掩膜板基材包括中间部以及分别位于所述中间部相对两侧的第一边缘部和第二边缘部，所述中间部包括至少一个显示区和非显示区，所述至少一个显示区所在区域分别与所述第一边缘部和所述第二边缘部距离最近的边为第一边和第二边，所述第一边位于所述中间部与所述第一边缘部的交界线上，所述第二边位于所述中间部与所述第二边缘部的交界线上。

示例性的，图2是本发明实施例提供的一种掩膜板基材的俯视示意图。如图2所示，掩膜板基材包括中间部100以及分别位于中间部100相对两侧的第一边缘部200和第二边缘部300，中间部100包括至少一个显示区110和非显示区120，至少一个显示区110所在区域分别与第一边缘部200和第二边缘部300距离最近的边为第一边111和第二边112，第一边111位于中间部100与第一边缘部200的交界线101上，第二边112位于中间部100与第二边缘部300的交界线102上。

需要说明的是，本实施例仅以中间部100包括两个显示区110为例进行说明，而非对显示区110个数的限定，在本实施例的其他实施方式中，中间部100包括的显示区110数量可以为1个或多于两个，本实施例对此不做具体限定。

步骤2、在所述掩膜板基材的第一侧减薄所述中间部中的第一区域，所述第一区域包括所述非显示区。

示例性的，第一区域减薄后掩膜板基材的俯视示意图也如图1所示。在图1为第一区域减薄后掩膜板基材的俯视示意图的前提下，图3是沿图1中虚线AB的剖面结构示意图，图4是沿图1中虚线CD的剖面结构示意图。如图3和图4所示，减薄的第一区域包括非显示区120。

步骤3、在所述第一侧形成所述至少一个显示区内的多个像素开孔，以形成所述金属掩膜板。

示例性的，图5是本发明实施例提供的一种金属掩膜板的俯视示意图。图6是沿图5中虚线EF的剖面示意图。图7是沿图5中虚线GH的剖面示意图。如图6和图7所示，在掩膜板基材的第一侧，也就是与减薄第一区域相同的一侧，形成显示区110内的多个像素开孔130。继续参见图6和图7，形成多个像素开孔130时，显示区110除像素开孔130之外的区域131厚度也随之减小。具体的，现有技术中通常采用湿法刻蚀工艺形成多个像素开孔130，刻蚀区域对应于各像素开孔130所在区域，理想情况下，显示区110除像素开孔130之外的区域131是不会被刻蚀的，厚度也是保持不变的。但实际生产过程中，对于相邻像素开孔130间距L较小，掩膜板基材厚度K较大的情况，显示区110除像素开孔130之外的区域131也会被一定量的刻蚀，进而导致形成像素开孔130后显示区110的厚度减小。需要说明的是，如图6和图7所示，由于非显示区120被提前减薄了，显示区110除像素开孔130之外的区域131与非显示区120的强度之差随之变小，使得张网过程中两个区域形变量不会相差很大。

图8是沿图5中虚线EF的又一种剖面示意图。图8中金属掩膜板的结构与图6中金属掩膜板的结构相似，不同的是，图8中金属掩膜板显示区110除像素开孔130之外的区域131的厚度在形成像素开孔130后并未减小，即与掩膜板基材的厚度相等。可以理解的是，虽然形成像素开孔130时采用的湿法刻蚀工艺并未对显示区110除像素开孔130之外的区域131造成影响，但由于显示区110形成有多个像素开孔130，显示区110的强度仍然比周围区域的强度低，将非显示区120减薄后，同样减小了显示区110和非显示区120之间的强度之差。

具体的，形成像素开孔130后显示区110的厚度是否减小与掩膜板基材的厚度K、相邻像素开孔130之间的间距L以及像素开孔130中侧壁的倾斜角度θ相关，上述三个参数是相互影响的，需综合考虑以确定形成像素开孔130后显示区110的厚度是否减小。

本实施例提供的技术方案，通过在所述掩膜板的第一侧减薄所述中间部100中的第一区域，所述第一区域包括所述非显示区120，并在所述第一侧形成所述至少一个显示区110内的多个像素开孔130，使得形成的金属掩膜板中显示区110与周围区域厚度之差减小，金属掩膜板在张网过程中产生褶皱的几率降低，金属掩膜板的张网精度得到提高。

示例性的，所述掩膜板基材的厚度取值范围可以为20-50μm。

可选的，如图2所示，沿所述第一边缘部200和所述第二边缘部300的排列方向X，所述至少一个显示区110依次排列。可以理解的是，在本实施例的其他实施方式中，至少一个显示区110的排列方式也可以为其他形式，例如可以为阵列排布，本实施例对此不做具体限定。

继续参见图5，所述第一边缘部200包括第一待切割部220和位于所述第一待切割部220靠近所述中间部100一侧的第一辅助部210，所述第二边缘部300包括第二待切割部320和位于所述第二待切割部320靠近所述中间部100一侧的第二辅助部310。图9为沿图5中虚线EF的又一种剖面示意图。如图9所示，所述第一区域还包括第一辅助部210和第二辅助部310，即减薄的区域包括非显示区120、第一辅助部210和第二辅助部310。

需要说明的是，第一待切割部220和第二待切割部320为形成的金属掩膜板张网后会切割掉的部分。

图10为沿图5中虚线EF的又一种剖面示意图。如图10所示，所述第一区域还包括所述第一待切割部220和所述第二待切割部320，即减薄的区域包括非显示区120、第一辅助部210和第二辅助部310，以及第一待切割部220和第二待切割部320。

需要说明的是，在本实施例的其他实施方式中，减薄的第一区域可以包括非显示区120、部分第一辅助部和部分第二辅助部，其中部分第一辅助部和第二辅助部优选的是对称结构，进一步的设置部分第一辅助部和部分第二辅助部均靠近中间部100设置，即保证第一区域为一连续区域；或者，减薄的第一区域可以包括非显示区120。第一辅助部210和第二辅助部310以及部分第一待切割区域和部分第二待切割区域，其中，部分第一待切割部和第二待切割部优选的是对称结构，进一步的设置部分第一待切割部和部分第二待切割部均靠近中间部100设置，即保证第一区域为一连续区域。

可选的，减薄所述第一区域和形成所述多个像素开孔310可以采用相同工艺进行。

示例性的，可以采用湿法刻蚀工艺减薄所述中间部100中的第一区域。需要说明的是，湿法刻蚀是现有技术中常用的减薄工艺，采用湿法刻蚀工艺减薄中间部100中的第一区域能够增加本方案与现有技术的兼容性，降低金属掩膜板的制备难度。

继续参见图2，所述显示区110的形状可以为圆角矩形。在本实施例的其他实施方式中，显示区110的形状还可以为圆形，如图11所示，也可以为缺口圆角矩形，其中，所述缺口圆角矩形中的缺口位于圆角矩形靠近或远离所述第一边缘部的边上，如图12所示。

示例性的，所述第一区域减薄后的厚度可以为减薄前厚度的60％-80％。这样的设置使得在显示区110与其周围区域的强度差降低的同时，不会导致金属掩膜板的整体强度下降的过多。

本发明实施例还提供了一种金属掩膜板，所述金属掩膜板采用本发明任意实施例所述的金属掩膜板的制备方法形成。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。