具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本申请将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。

请结合参考图1至图4，其为本发明实施例的金属掩膜板的结构示意图。如图1至图4所示，所述金属掩膜板100包括：掩膜板主体；所述掩膜板主体包括至少一个子掩膜板10，所述子掩膜板10中设置有多个蒸镀区11，每个蒸镀区11中设置有多个蒸镀孔11a，所述多个蒸镀孔11a呈阵列方式排列，所述子掩膜板10具有相对设置的玻璃面12和蒸镀面13，每个蒸镀孔11a均包括一凹槽和一弧形槽，所述凹槽与所述弧形槽均沿着所述子掩膜板的厚度方向设置且相互连通，所述凹槽的一端与所述玻璃面12齐平，任意相邻的蒸镀孔11a之间均设置有遮挡结构14，所述遮挡结构14的顶面与所述玻璃面12齐平，所述遮挡结构14的侧面分别构成所述凹槽与所述弧形槽的侧壁；其中，所述遮挡结构14的厚度方向与所述子掩膜板10的厚度方向一致，且所述遮挡结构14的厚度小于所述子掩膜板10的厚度；所述弧形槽的中心截面包括第一弧线a和第三弧线b，所述第三弧线b与所述遮挡结构14的侧面重合，所述第三弧线b与所述第一弧线a的弧度相同且圆心位置重合。

具体的，所述掩膜板主体具有相对设置的玻璃面与蒸镀面，所述蒸镀面也称为大开口面，其面向蒸镀源，所述玻璃面也称为小开口面，其背向蒸镀源，面向玻璃基板。

所述掩膜板主体由至少一个子掩膜板10并排组合而成，所述子掩膜板10同样具有玻璃面12和蒸镀面13，所述子掩膜板10的厚度D1即所述玻璃面12与所述蒸镀面13之间的距离。

本实施例中，所述子掩膜板10的截面形状为矩形，其长度范围为700mm～1400mm，其宽度围为30mm～300mm。

需要说明的是，上述子掩膜板10的形状和尺寸仅为举例，而非限定，本领域技术人员可结合实际需求对所述子掩膜板10的形状和尺寸进行设置。例如，所述子掩膜板10的截面形状可以为圆形或者其他不规则的形状，如其中相对的两条边为直线，另外相对的两条边为弧形的异形。

如图2所示，所述子掩膜板10包括多个蒸镀区11和定位区(图中标号未示出)，所述多个蒸镀区11为间隔设置，相邻的蒸镀区11之间保持一定的间距，每个蒸镀区11中均设置有多个蒸镀孔(图中未示出)，所述定位区内设置有定位孔(图中标号未示出)，通过所述定位孔能够方便地将所述子掩膜板10张紧固定，使得将所述子掩膜板10的玻璃面12与玻璃基板紧密贴合，进而让有机材料通过多个蒸镀孔11a蒸镀到玻璃基板上，同时所述定位孔能够对所述子掩膜板10进行限位，有效防止所述子掩膜板10的移动，从而保证蒸镀质量。

本实施例中，所述子掩膜板10中设置有10个蒸镀区11，这10个蒸镀区11按照每行5个、每列2个排布，所述多个蒸镀区11的截面形状均为圆形且尺寸相同，相邻的蒸镀区11之间具有一定的间距，且距离相等。

需要说明的是，上述多个蒸镀区11的形状、数量与排布方式仅为举例，而非限定，本领域技术人员可结合实际需求对所述多个蒸镀区11的形状、数量与排布方式进行设置。例如，所述蒸镀区11的形状也可以为长方形、正方形、圆形切边、矩形倒圆角、矩形挖孔、矩形带Notch、环形或其他形状。

如图3和图4所示，所述玻璃面12上设置有多个凹槽(图中标号未示出)，所述蒸镀面13上设置有多个弧形槽(图中标号未示出)，所述多个凹槽与所述多个弧形槽一一对应并相互连通，对应并连通的凹槽与弧形槽共同构成一蒸镀孔11a，所述多个蒸镀孔11a呈阵列方式排列，每个蒸镀孔11a均包括一凹槽和一弧形槽，所述凹槽与所述弧形槽均沿着所述子掩膜板10的厚度方向设置，所述凹槽的一端与所述玻璃面12齐平，所述凹槽的另一端与所述弧形槽的一端相接，所述弧形槽的另一端与所述蒸镀面13齐平或与所述蒸镀面13连通，即每个蒸镀孔11a均沿厚度方向贯穿所述子掩膜板10。

其中，所述蒸镀孔11a在所述玻璃面12的开口尺寸小于所述蒸镀孔11a在所述蒸镀面12的开口尺寸。

本实施例中，所述多个蒸镀孔11a在所述玻璃面12和所述蒸镀面13上的形状均为圆形，所述多个蒸镀孔11a在所述玻璃面12上均为间隔设置，同一行的蒸镀孔11a在所述蒸镀面13上依次相连。

为简洁，图3仅示出了蒸镀区11中两个边缘位置的蒸镀孔11a。本领域技术人员应理解，所示蒸镀区11具有多行多列的蒸镀孔11a，每一行或每一列的数量都不止两个。例如，对于手机类的产品而言，每一行或每一列的蒸镀孔11a的数量可达1000～4000个。

请继续参考图3，对于边缘位置的蒸镀孔11a而言，其弧形槽的中心截面包括第一弧线a和第三弧线b，在同一个蒸镀孔11a中，所述第三弧线b与所述第一弧线a的长度虽然不同，但所述第三弧线b与所述第一弧线a的弧度相同且圆心位置重合。

其中，所述第一弧线a两端的连线与所述蒸镀面13所在平面之间的夹角即为蒸镀角θ。

理论上，金属掩膜板的蒸镀角越小，对于有机材料的阻挡就越小，有机材料的利用率就越高，蒸镀的有效膜宽就越高。实验证明，金属掩膜板的蒸镀角大于55°时，蒸镀的有机材料会在蒸镀面的开孔边缘位置出现聚集，影响蒸镀效率，因此蒸镀机要求金属掩膜板的蒸镀角θ最大值为55°。而现有的蒸镀角一般在60°左右，已经超过55°，因此蒸镀效率较低。

本实施例中，所述蒸镀角θ在40°到50°之间。与现有的金属掩膜板相比，本实施例提供的金属掩膜板100的蒸镀角θ更小，使得所述蒸镀面13的开口尺寸更大，因此蒸镀的有机材料不会在所述蒸镀面13的开孔边缘位置(图中椭圆形虚线所示)聚集，有机材料的利用率更高，由此能够进一步提高蒸镀膜层的有效膜宽。

实验证明，在同等条件下，蒸镀角θ为60°时有效膜宽与膜宽的比值仅有56％，蒸镀角θ降低至45°时，有效膜宽/膜宽的比值提升至76％。而有效膜宽/膜宽的比值升高，意味着蒸镀的有效面积增大，对提高蒸镀的良率大有益处。其中，所述膜宽是指蒸镀膜层的宽度，所述有效膜宽是指蒸镀膜层的膜厚≥95％的宽度。

请继续参考图3，相邻的蒸镀孔11a之间设置有遮挡结构14，所述遮挡结构14具有一顶面和一侧面(图中标号未示出)，所述顶面与所述玻璃面12齐平，所述侧面的一端与所述顶面相连，所述侧面的另一端朝向所述蒸镀面13延伸，并分别构成所述凹槽与所述弧形槽的侧壁，所述遮挡结构14的厚度方向与所述子掩膜板10的厚度方向一致，所述遮挡结构14的厚度D2小于所述子掩膜板10的厚度D1。

由于所述遮挡结构14的侧面构成与其相邻的蒸镀孔11a的孔壁，因此所述遮挡结构14的侧面结构和尺寸要求与所述蒸镀孔11a的结构和尺寸相匹配。其中，所述第三弧线b与所述遮挡结构14中构成所述弧形槽侧壁的部分侧面重合。从所述凹槽和所述弧形槽的相接面开始，所述遮挡结构14的截面尺寸沿着其侧面的延伸方向逐渐减小。

本实施例中，所述蒸镀孔11a的凹槽和弧形槽的截面均为弧形结构，即所述弧形槽的中心截面包括第一弧线a和第三弧线b，所述凹槽的中心截面包括第二弧线和第四弧线(图中标号未示出)。其中，所述第三弧线b与所述第一弧线a的位置相对且弧度相等，所述第四弧线与所述第二弧线的位置相对且弧度相等。

在其他实施例中，所述凹槽也可以不采用弧形结构，其截面可以是矩形、梯形或者其他形状。相应的，所述凹槽的中心截面不包括第二弧线和第四弧线，而是两条对称的直线段或其他形状。

如图5所示，所述蒸镀孔11a在所述玻璃面12的形状为矩形，即所述凹槽的截面形状为矩形。若进一步调整所述第三弧线b与所述第一弧线a的弧度，所述蒸镀孔11a在所述蒸镀面13上的形状可由圆形变成椭圆形。如图6所示，所述蒸镀孔11a在所述玻璃面12的形状为矩形，所述蒸镀孔11a在所述蒸镀面13上的形状为椭圆形。此外，相邻行的蒸镀孔11a也可以错开设置。如图7所示，奇数行的蒸镀孔11a与偶数行的蒸镀孔11a之间位置相互错开。上述实施例中，仅同一行的多个蒸镀孔11a在所述蒸镀面13上连为一体。在其他实施例中，不同行的多个蒸镀孔11a在所述蒸镀面13上也可连为一体。如图8所示，所述多个蒸镀孔11a在所述玻璃面12上均为间隔设置，所述多行多列的蒸镀孔11a在所述蒸镀面13上的形状连为一体。

需要说明的是，上述多个蒸镀孔11a的形状、数量与排布方式仅为举例，而非限定，本领域技术人员可结合实际需求对所述多个蒸镀孔11a的形状、数量与排布方式进行设置。

本实施例中，所述遮挡结构14的一端与所述玻璃面12齐平，所述遮挡结构14的另一端收缩于一端点，形成倒锥形结构，所述倒锥形结构的底面即所述遮挡结构14的顶面，所述倒锥形结构的顶点即所述端点，所述端点与所述玻璃面12的距离是所述遮挡结构14的厚度D2。

在其他实施例中，所述遮挡结构14的另一端也可以不收缩于一点，而是收缩至同一平面，即所述遮挡结构14还包括一底面，所述底面与所述顶面平行，所述底面到所述玻璃面12的距离是所述遮挡结构14的厚度D2。

优选的，所述遮挡结构14为轴对称结构，所述轴对称结构的对称轴沿着所述子掩膜板10的厚度方向设置，所述遮挡结构14的端点位于所述对称轴上。如此，能够提高所述子掩膜板10的对称性，从而减少上翘、下垂或塌陷现象的发生。

对于中间位置的蒸镀孔11a而言，其弧形槽的中心截面包括第三弧线b和第五弧线(图中标号未示出)，所述第五弧线和所述第三弧线b分别与所述遮挡结构14中构成所述弧形槽侧壁的部分侧面重合。在同一个蒸镀孔11a中，所述第五弧线与所述第三弧线b为对称设置且圆心位置重合。

请继续参考图3，所述遮挡结构14的厚度D2即所述蒸镀区11的厚度，所述遮挡结构14的宽度即开孔间距L1，所述开孔间距L1与所述遮挡结构14的厚度D2以及所述蒸镀角θ满足以下关系：

L1＝2×D2÷tan(θ÷180×π)。

其中，所述开孔间距L1与开孔密度，即产品的分辨率(PPI)有关。对于某一分辨率(PPI)的产品而言，则L1是一固定值。所述蒸镀角θ越小，则所述遮挡结构14的厚度D2也越小。反之，所述蒸镀角θ越大，则所述遮挡结构14的厚度D2也越大。

众所周知，所述子掩膜板10的材质为金属，一般采用因瓦合金(简称为Invar)制作。在实际制造过程中发现，厚度在30微米(μm)以上的Invar材料很难满足精密金属掩膜板(FMM)的规格要求，特别是蒸镀角的要求，因此制作精密金属掩膜板(FMM)需要更薄的Invar材料。然而，目前市场上用于制作金属掩膜板的Invar材料厚度一般都在30μm以上。因此，在现有技术中，蚀刻工艺很难制作出蒸镀角小于40°的金属掩膜板，即使制作出来也会由于蒸镀区的厚度太薄(10～15μm)，容易变形而难以正常使用。

本实施例中，所述子掩膜板10的厚度D1为30μm，所述遮挡结构14的厚度D2在15μm到30μm之间。其中，所述遮挡结构14的厚度D2根据产品PPI或掩膜板开孔密集程度决定。产品的分辨率(PPI)越大，其对应的金属掩膜板的开孔间距则越小，即开孔密度越大。反之，产品的分辨率(PPI)越小，其对应的金属掩膜板的开孔间距则越大，即开孔密度越小。

当产品的分辨率(PPI)较高、金属掩膜板的开孔密度较大时，所述遮挡结构14的厚度D2一般控制在15μm到20μm之间。当产品的分辨率(PPI)较低、金属掩膜板的开孔密度较小时，所述遮挡结构14的厚度D2一般控制在25μm到30μm之间。当产品的分辨率(PPI)居中、金属掩膜板的开孔密度居中时，所述遮挡结构14的厚度D2可以控制在20μm到25μm之间。

本实施例提供的子掩膜板10在增加蒸镀面13的开孔尺寸的同时，将遮挡结构14的厚度D2控制在15～30μm。如此，既能避免蒸镀区的厚度太薄而影响正常使用，又能减小蒸镀角θ，进而提高蒸镀膜层的有效膜宽。虽然所述子掩膜板10还是采用厚度为30μm的Invar材料制作，但是可以达到厚度小于30μm(例如25μm或20μm)的Invar材料所能够达到的效果，在一定程度上缓解了目前没有30μm以下Invar材料供应的问题。

根据生产统计数据可知，目前共有21种常用的金属掩膜板产品，这些常用的金属掩膜板产品的开孔尺寸如下表所示：

表1

其中，CD-X与CD-Y是指金属掩膜板产品的蒸镀孔尺寸，CD-X-Pitch与CD-Y-Pitch是指任意相邻的两个蒸镀孔的中心间距，CD-X、CD-Y、CD-X-Pitch、CD-Y-Pitch与开孔间距的单位均为μm。

如表1所示，这21中常用的金属掩膜板的开孔间距在24.2μm到73.2μm之间。若所述遮挡结构14的厚度D2为30μm，蒸镀角θ的最小值为40°，此时只能满足开孔间距在42～73.2μm之间的部分常用产品；若遮挡结构14的厚度D2为25μm，蒸镀角θ的最小值约为35°，此时只能满足开孔间距在35～73.2μm之间的部分常用产品；若遮挡结构14的厚度D2为20μm，蒸镀角θ的最小值约为30°，此时只能满足开孔间距在28～73.2μm之间的部分常用产品；若遮挡结构14的厚度D2为15μm，蒸镀角θ的最小值小于30°，此时能满足开孔间距在21～73.2μm之间的全部常用产品。

由此可见，采用本实施例提供的子掩膜板10，当蒸镀角θ小于40°时，蒸镀区11的厚度仍在15μm以上，不会由于太薄而造成金属掩膜板100难以正常使用。

请结合参考图2和图3，每个蒸镀区11的外围均设置有辅助区15，所述辅助区15也称为Dummy区域，其厚度与所述子掩膜板10的厚度D1相近，所述辅助区15中设置有多个辅助孔(图中未示出)，所述多个辅助孔均为半刻孔，所述多个辅助孔的孔深均小于所述多个蒸镀孔11a的孔深。

优选的，所述多个辅助孔的外形尺寸与所述多个蒸镀孔11a相同或相近，所述多个辅助孔的间距和排布方式均与所述多个蒸镀孔11a相同。

请结合参考图2和图9，所述辅助区15的形状为外方内圆，其内侧边缘为圆形且与其相应的蒸镀区11的边缘重合，其外侧边缘为矩形且与内侧边缘(即相应的蒸镀区11的边缘)具有一定的间距，在所述子掩膜板10的长度方向上，所述辅助区15的外侧边缘与内侧边缘之间的距离d在1.5mm以上。

其中，所述辅助区15的外侧边缘与内侧边缘之间的距离d越大，意味着所述辅助区15的宽度越大。与现有的金属掩膜板相比，本实施例提供的金属掩膜板100的辅助区15宽度更大，即使所述子掩膜板10因张网出现受力不均问题，也能够将应力集中区域由蒸镀区11的边缘外移至所述辅助区15，由此避免所述蒸镀区11的边缘因应力集中而出现变形问题。

优选的，在所述子掩膜板10的长度方向上，所述辅助区15的外侧边缘与内侧边缘之间的距离d在2mm以上。如此，所述辅助区15的宽度进一步增大，即使出现应力集中问题，也能够确保不会对到蒸镀区11造成不利影响。

本实施例中，所述多个蒸镀区11的辅助区15连为一体。在其他实施例中，所述多个蒸镀区11的辅助区15也可以部分相连或者完全不相连。如图10所示，同一列的蒸镀区11所对应的辅助区15连为一体，不同列蒸镀区11所对应的辅助区15并不相连。如图11所示，每个蒸镀区11对应的辅助区15均为独立设置，任意相邻的辅助区15均不相连。

请继续参考图1，所述金属掩膜板100还包括掩膜板框架(图中未示出)、遮盖板和支撑板；所述遮盖板的英文名称为Cover MASK，设置于所述掩膜板主体的上方，所述支撑板的英文名称为Howling MASK，设置于所述掩膜板主体的下方，所述掩膜板主体(即至少一个子掩膜板10)、遮盖板和支撑板均张紧固定在所述掩膜板框架上，所述遮盖板包括多个平行设置的遮盖条21，所述支撑板包括多个平行设置的支撑条31，所述遮盖条21与所述支撑条31纵横交叉设置，所述子掩膜板10的每个蒸镀区11在所述遮盖板上的正投影位于相邻的遮盖条21之间，所述子掩膜板10的每个蒸镀区11在所述支撑板上的正投影位于相邻的支撑条31之间。

其中，所述子掩膜板10下方的支撑板能够起到支撑作用，进一步改善所述子掩膜板10的形变问题。

对于不同类型的蒸镀机而言，蒸镀源的蒸镀角的要求是不同的，对应的金属掩膜板的蒸镀角也不相同。但是，蒸镀源的蒸镀角与金属掩膜板的蒸镀角之和一般不能超过90°。例如，当蒸镀源的蒸镀角为35°时，金属掩膜板的蒸镀角则要求不超过55°。

请结合参考图1和图12，进行蒸镀时，蒸镀源(图中标号未示出)对准所述金属掩膜板100，所述金属掩膜板100的蒸镀角θ与所述蒸镀源的蒸镀角α之和不超过90°，同时，所述蒸镀角θ的范围在40°到50°之间。由于所述蒸镀角θ未超出55度°，因此蒸镀的有机材料不会在所述蒸镀面13的开孔边缘位置聚集，蒸镀膜层的有效膜宽得以提高。同时，由于所述蒸镀区11外围的辅助区的宽度比较大，即使蒸镀角θ缩小会增加所述蒸镀区11与非开孔区的金属厚度差异，也能够避免应力集中于所述蒸镀区11的边缘，进而避免蒸镀过程中出现混色/晕开等蒸镀异常问题。

本实施例中，所述金属掩膜板100为高精密金属掩膜板(FMM)。

上述附图仅仅是示意性地示出本发明提供的金属掩膜板。为了清楚起见，简化上述各图中的元件形状、元件数量并省略部分元件，本领域技术人员可以根据实际需求进行变化，这些变化都在本发明的保护范围内，在此不予赘述。

综上，本发明提供的金属掩膜板，通过在相邻的蒸镀孔之间设置遮挡结构以控制蒸镀区的厚度，使得蒸镀角得以缩小，由此提高了蒸镀膜层的有效膜宽，进一步的，通过增大蒸镀区外围的辅助区的宽度，能够避免应力集中在蒸镀区的边缘，进而避免蒸镀异常问题。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本申请所作的进一步详细说明，不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本申请的保护范围。