阅读说明：本技术 供应装置、方法和处理装置 (Supply device, method and processing device ) 是由 乌维·魏纳 安德烈亚斯·古德拉特 安德烈亚斯·穆勒 米夏埃尔·霍夫曼 克里斯托夫·舒斯特 于 2020-02-24 设计创作，主要内容包括：按照不同的实施方式,一种供应装置(350)可以具有：用于运输各一个蒸发钳锅的两个钳锅载体(304、1304)；支架,该支架具有至少一个停放区域(312、314)和移动结构(306),其中,这样来设置用于在支架上移动两个钳锅载体(304、1304)的移动结构(306),使得两个钳锅载体(304、1304)可以同时布置在一个停放区域(312、314)中的停放位置中并且能交替地进入真空腔室(802)内的运行位置中；冷却流体供应机构(602),该冷却流体供应机构设置用于,当从停放位置移动进入运行位置时,同时用冷却流体供应两个钳锅载体(304、1304)。(According to various embodiments, a supply device (350) may have: two crucible carriers (304, 1304) for transporting one evaporation crucible each; a rack having at least one parking region (312, 314) and a moving structure (306), wherein the moving structure (306) for moving the two crucible carriers (304, 1304) on the rack is provided such that the two crucible carriers (304, 1304) can be arranged simultaneously in a parking position in one parking region (312, 314) and alternately into an operating position within the vacuum chamber (802); a cooling fluid supply mechanism (602) configured to simultaneously supply the two crockery carriers (304, 1304) with cooling fluid when moving from the parking position into the operating position.)

供应装置、方法和处理装置

技术领域

本发明涉及供应装置、方法和处理装置。

背景技术

高功率电子束(例如有几千瓦功率)通常使用在真空处理设备中，以便加 热基底或工件、熔化材料或者使涂层材料蒸发。

例如可以借助电子束这样加热材料(例如铜)，使得所述材料先液化并且紧 接着有针对性地蒸发。所产生的蒸汽最终作为涂层沉积在基底上。材料的储存 在钳锅中完成。在材料消耗后，必须相应循环地再填充所述钳锅。

通常发生了在基底上分离出的层材料(也称为蒸发料或涂层材料)从钳锅 (也称为蒸发钳锅)的蒸发，在所述钳锅中借助电子束加热蒸发料。这个钳锅 可以是所谓的“冷”(也称为经冷却的)或“热”钳锅。在此，热钳锅指的是由 一种材料(也称为钳锅材料)制成的未经冷却的钳锅，其具有相比蒸发料(例 如铜)较差的导热性。热钳锅可以例如由耐高温的钳锅材料制成，如氧化物或 硼化物。在一些情况下也考虑用石墨作为钳锅材料，在这些情况下，有石墨的 蒸发料不形成化合物或仅很难或少量形成化合物。

冷钳锅(也称为经冷却的钳锅)可以例如是水冷的铜钳锅，例如由于铜的 良好的导热性和水能成本低廉地用作冷却介质。

通常以如下方式补偿蒸发料的消耗，即，将附加的蒸发料带入到钳锅中(也 称为再填充)。钳锅用蒸发料的再填充可以例如在真空下以如下方式进行，即， 将杆形的蒸发料从下方输送给钳锅。在蒸发料消耗很大时，在真空下的再填充 并不常见，因为在真空下储备的蒸发料的量有限。因此在这种情况下通常将钳 锅从真空取出并且在大气下进行再填充。

发明内容

按照不同的实施方式已经认识到，蒸发料的再填充显然需要很多时间，因 为钳锅在处理设备中冷却并且之后才能从这个处理设备取出。因此处理设备的 生产能力变小、成本提高并且需要更多的人员和用工量。按照不同的实施方式， 提供了一种供应装置、一种方法和一种处理装置，其明显减少了用蒸发料再填 充钳锅可能需要的中断的持续时间。

按照不同的实施方式，明显准备好用已经再填充好的钳锅替换有待再填充 的钳锅，其中，可以在真空腔室外完成对有待再填充的钳锅的冷却。可以以如 下方式在真空腔室外冷却有待再填充的钳锅，即，借助冷却流体以与大气气体 分离的方式不中断地从这个有待再填充的钳锅抽取热能。因此显然能达到尽可 能短暂的中断，因而处理设备仅短暂地停止运行。例如可以这样准备用蒸发料 再填充钳锅，从而可以遵守所有对安全重要的要求以及不会在装备上产生损伤 或使蒸镀材料变得不可用。例如可以实现处理装置的连续运行。

按照不同的实施方式，供应装置具有：用于运输各一个蒸发钳锅的两个钳 锅载体；具有停放区域和移动结构的支架，其中，移动结构设置用于这样在支 架上移动两个钳锅载体，使得两个钳锅载体能同时布置在停放区域内的停放位 置中并且交替地进入真空腔室内的运行位置中；冷却流体供应机构，其设置用 于在从停放位置移动进入运行位置时同时向两个钳锅载体供应冷却流体。

附图说明

图中：

图1在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的钳锅装 置；

图2在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的真空装 置；

图3A、3B、4A、4B、5、6A和6B在不同的视图中分别示出了按照不同的 实施方式的供应装置；

图10在示意性俯视图中示出了按照不同的实施方式的处理装置；

图7A、7B、8A、8B、9A、9B和11在示意性侧视图或横截面视图中分别 示出了按照不同的实施方式的供应装置；并且

图12在示意性流程图中示出了用于运行供应装置的方法。

具体实施方式

在下列详尽的说明中参考了附图，附图形成了说明书的一部分并且在附图 中为了图解说明而示出了一些特殊的实施方式，能以所述实施方式实施本发明。 在这方面，参照所说明的附图的方位使用方向术语如“上”、“下”、“前”、“后”、 “前面的”、“后面的”等。因为实施方式的部件能以多个不同的方位定位，所 以方向术语用于图解说明并且并不作任何限制。不言而喻的是，可以使用其它 的实施方式并且作出结构上或逻辑上的修改，而不会偏离本发明的保护范围。 不言而喻的是，在此文中所说明的不同的示例性的实施方式的特征能相互组合， 倘若没有专门另行说明的话。随后的详细的说明因此不能理解为是限制性的， 本发明的保护范围则由所附的权利要求限定。

在本说明书的范畴内，概念“连接(verbunden)”、“联接(angeschlossen)” 以及“耦合(gekoppelt)”用于说明直接的和间接的连接(例如电阻性的或导电 的，例如导电的连接)、直接的或间接的联接以及直接的或间接的联结。为图中 一致或类似的元件配设一致的附图标记，如果这样做合适的话。

根据不同的实施方式，术语“经耦合(gekoppelt)”或“耦合(Kopplung)” 可以理解为是(例如机械的、静液压的、热的和/或电的)例如直接或间接的连 接和/或相互作用。多个元件可以例如沿着相互作用链互相联结，沿着所述相互 作用链能传递相互作用(例如信号)。两个彼此联结的元件可以例如彼此交换相 互作用，例如机械的、静液压的、热的和/或电的相互作用。根据不同的实施方 式，“接合(gekuppelt)”可以理解为是例如借助直接的身体接触的机械的(例 如身体上的或物理的)联结。接合装置可以设置用于，传递机械的相互作用(例 如力、扭矩等)。

控制可以理解为是有意地影响系统。在此能按照预先规定来改变所述系统 的状态。调节可以理解为是控制，其中，额外通过干扰来抵抗系统的状态变化。 控制明显可以具有向前指向的控制段并且因此明显实施流程控制，所述流程控 制将输入参量转成输出参量。但控制段也可以是调节回路的一部分，因而实施 调节。与纯正向控制相反，调节表明输出参量对输入参量具有连续影响，调节 回路促成了所述影响施加(反馈)。换句话说，作为控制的备选方案或者除了控 制外，还使用调节，或者作为控制的备选方案或者除了控制外，还进行调节。 在调节时，将调节参量的实际值(例如基于测量值求出)与反馈值(额定值或 预先规定或预定值)作比较并且相应地可以借助调整参量(在使用调整机构的 情况下)这样来影响调节参量，从而尽量使调节参量的相应的实际值与反馈值 的偏差很小。

按照不同的实施方式，蒸发钳锅(也称为熔炼钳锅或简称为钳锅)可以布 置在一个永久水冷的并且能密封封闭的包封壳体(也称为钳锅壳体)中。包封 壳体可选可以具有自动打开和关闭的盖。在结束蒸发过程之后和对真空腔室通 风之前，所述包封壳体可以被关闭并且用保护气体加载其内部。

按照不同的实施方式，例如可以蒸发铜。为此可能需要将铜在蒸发钳锅内 加热到约1400℃或更高的温度。蒸发钳锅可以例如具有石墨或由石墨形成。

只要加热铜(或其它蒸发料)的过程在真空下进行，那么就几乎不存在或 不存在保护石墨钳锅或铜免受氧化影响的必要性。真空钳锅可选可以全面地用 辐射屏蔽装置包封，以阻止热辐射进入真空腔室或安装在那里的部件。在蒸发 过程期间，大量铜蒸汽可能在有待涂层的基底上和例如也在整个环境中冷凝。

按照不同的实施方式，蒸发料也可以是不同于铜的材料。更为一般而言， 蒸发料可以例如具有铜(Cu)、银(Ag)、锡(Sn)、铟(In)和/或金(Au)或 由其形成。这种蒸发料例如可以具有其它贵金属化合物和例如铜(Cu)、银(Ag)、 锡(Sn)、铟(In)和/或金(Au)的合金或由其形成。但原则上也能蒸发其它类 型的蒸发料，例如金属。

基于蒸发结束后蒸发钳锅的明显长的冷却时间，可以使用有相应的包封壳 体的两个蒸发钳锅。所述两个蒸发钳锅中的每个蒸发钳锅可以分别安装在单独 的腔室门法兰上。未使用的蒸发钳锅可以在工作期间与其它蒸发钳锅一起相应 地保养并且再次重新用蒸发材料填充(例如再填充)。经填充的蒸发钳锅可以在 蒸发周期结束后替换另一个钳锅。以这种方式可以完成两个或多于两个的钳锅 彼此间的一次或多于一次的替换过程。一个或多于一个的替换过程可以例如分 别交替地进行。两个蒸发钳锅或它们的包封壳体可以永久地与介质供应机构连 接。

介质供应机构可以例如具有至少一个冷却流体供应机构，该冷却流体供应 机构例如提供了冷却水和/或保护气体的供应。介质连接机构(例如，冷却水和/ 或保护气体)可以永久地与所述两个蒸发钳锅中的每个蒸发钳锅连接并且因此 例如在替换过程期间保持运行。

按照不同的实施方式，可以满足高安全要求。可以以如下方式阻止蒸发钳 锅和蒸发材料受污染或受损，即，基于两个蒸发钳锅彼此间的相应的替换，可 以遵守相应的冷却时间。

按照不同的实施方式提供的供应装置通常也可以与其它类型的钳锅和/或其 它类型的蒸发料一起使用，例如氧化物蒸发料、石墨蒸发料或另一种化合物的 蒸发料。

在这个说明书的框架内，金属(也称为金属的材料)可以具有至少一种金 属元素(这就是说一种或多种金属元素)(或者由至少一种金属元素构成)，例 如来自下列元素组的至少一种元素：铜(Cu)、铁(Fe)、钛(Ti)、镍(Ni)、 银(Ag)、铬(Cr)、铂(Pt)、金(Au)、镁(Mg)、铝(Al)、锆(Zr)、钽(Ta)、 钼(Mo)、钨(W)、钒(V)、钡(Ba)、铟(In)、钙(Ca)、铪(Hf)、钐(Sm)、 银(Ag)和/或锂(Li)。此外，金属还可以具有金属化合物(例如金属间化合物 或合金)或由金属化合物形成，例如，由至少两种金属元素(例如来自所述元 素组的元素)构成的化合物、如青铜或黄铜，或者例如由至少一种金属元素(例 如来自所述元素组的元素)和至少一种非金属元素(例如碳)构成的化合物、 如钢。

按照不同的实施方式，基底可以具有下列材料中至少一种或者由下列材料 中至少一种形成：陶瓷、玻璃、半导体(例如非晶态半导体、多晶半导体或单 晶半导体、如硅)、金属(例如铝、铜、铁、钢、铂、金等)、聚合物(例如塑 料)和/或不同的材料的混合物、如复合材料(例如碳纤维增强的碳或碳纤维增 强的塑料)。基底可以作为板或作为带(例如薄膜)提供。基底例如可以具有塑 料薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和/或玻璃薄膜或由其形成，并且可选能被涂层。 基底备选或附加地可以例如具有纤维、如玻璃纤维、碳纤维、金属纤维和/或塑 料纤维，例如形式为编织物、网、针织物、针织品，或者毛毡或毛钩品(Flies)。

图1在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的钳锅装 置100。

钳锅装置100可以具有一个例如由多部分构成的壳体102。壳体102可以例 如设置成耐超压的和/或透气的，即使该壳体是拼接的和/或闭合的。由多部分构 成的壳体102方便了对壳体内室102i的访问。

由多部分构成的壳体102可以具有壳体槽102w(也称为钳锅载体槽102w) 和与之分开的(例如能取下的)壳体盖102d(也称为遮盖架)。壳体盖102d可 以例如设置成框架形和/或能被开口102o(也称为蒸汽出口102o)贯通。壳体盖 102d可以用其边缘放置在壳体槽102w上。壳体槽102w可以朝着壳体盖102d 的方向敞开并且提供壳体内室102i。蒸汽出口102o可以部分露出壳体内室102i。

钳锅装置100还可以具有钳锅104。钳锅104可以具有至少一个(这就是说 一个或多于一个)容器104b(也称为蒸发料容器)或由该容器形成。

坩埚104、例如每个蒸发料容器104b，可以具有凹部104t(也称为坩埚接 口(Tiegelhafen))，蒸发料106布置在该凹部中。蒸发料106通常可以是这样一 种材料，其可以在热作用下熔化和/或转为气相。蒸发料容器104b为此例如可以 设置成向下流体密封，因而液化的蒸发材料不会从这个蒸发料容器出来。凹部 104t例如可以布置在蒸汽出口102o下方。

蒸发料到汽相的转化也可以称为热蒸发。热蒸发可以既具有从液相到气相 的转变，也具有从固相到气相的直接转变(也称为升华)。

坩埚104可以至少部分(这就是说坩埚的一些组成部分或所有组成部分) 由耐高温的材料制成，这就是说，具有这种耐高温的材料或由这种耐高温的材 料形成。至少一个蒸发料容器104b例如可以具有耐高温的材料或由耐高温的材 料形成。

耐高温的材料指的是这样一种材料，其在真空下(例如在排出氧气的情况 下)具有大于约2500℃、如大于约2750℃、例如大于约3000℃的分解温度(例 如熔点和/或升华温度)。耐高温的材料可以例如具有例如在诸如石墨这样的改性 碳化物或碳化物中的碳或由所述碳形成。耐高温的材料可选可以具有纤维。耐 高温的材料例如可以具有纤维复合材料或由纤维复合材料形成，其中，纤维复 合材料可以例如具有碳。

耐高温的材料例如可以具有碳纤维增强的碳(CFC)或由碳纤维增强的碳形 成。碳纤维增强的碳可以例如使利于价格的制造成为可能。碳纤维增强的碳可 以例如被利于成本地加工和/或具有较高的抗弯强度。

备选也可以使用其它坩埚类型，例如水冷的铜坩埚和/或没有壳体102的坩 埚。

钳锅装置100还可以具有坩埚保持结构108，该坩埚保持结构将坩埚104保 持在壳体102内。

壳体102可选可以具有辐射屏蔽装置102s。该辐射屏蔽装置102s可以例如 阻止从坩埚104穿过壳体102的热传递。钳锅装置100可以可选具有气体供应 结构110。该气体供应结构110可以具有一个或多于一个的气体出口(例如以气 体分配器的形式)，该气体出口例如对准坩埚104。

钳锅装置100可以可选具有盖封112。所述盖封112可以设置用于在不应蒸 发时封闭或至少部分遮盖蒸汽出口102o。

借助一个电子束(未示出)带入到蒸发料106中的功率可以加热蒸发料106 并且使蒸发料最终转为汽相(也称为蒸发料106的蒸发)。蒸发的蒸发料106可 以从蒸汽出口102o出来并且积聚在基底(未示出)上(这就是说在其上形成了 层)。

壳体102，例如壳体槽102w和/或壳体盖102d，备选可以被水冷。钳锅104 备选或附加地可以被水冷。

盖封112可选能被水冷。

壳体槽102w和/或壳体盖102d例如可以具有冷却结构1104。所述冷却结构 1104可以例如具有一个或多于一个的流体管路，例如借助双壁的壳体槽102w 和/或双壁的壳体盖102d的空腔提供。

图2在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的真空装 置200，例如具有钳锅装置100和/或蒸发钳锅104。

按照不同的实施方式，真空装置200具有：真空腔室224(也称为真空处理 腔室或蒸镀腔室)，在该真空腔室内布置着蒸镀区域224r，其中，该蒸镀区域224r 例如在真空装置200运行时可以具有占空。真空腔室224还可以具有至少一个 (这就是说正好一个或多于一个的)撞击区域224a、224b。

真空装置200还可以具有至少一个(这就是说正好一个或多于一个)电子 枪122，该电子枪例如具有电子束源112q和用于将一个电子束23偏转到至少一 个撞击区域224a、224b中的偏转系统142a。电子束源112q可以具有电子源(例 如阴极、例如热阴极)和电子束成形单元(例如阳极)

电子束23可以例如按照一个(例如同一个)偏移顺序(也称为电子束偏移 顺序)偏移，例如多次前后相继地按照同一偏移顺序偏移。偏移顺序可以明确 地代表一系列额定撞击点和/或一个额定轨迹(也称为额定偏移轨迹)，电子束 23对准所述一系列额定撞击点和/或一个额定轨迹(这就是说，额定撞击点应当 借助电子束23出发)。所述或每个偏移顺序可以限定一个本身闭合的轨迹155 或沿着本身闭合的轨迹155的一系列额定撞击点155，所述轨迹应当被照射(所 谓的撞击点155)。更为普遍地说明了偏移图(也称为偏移简图)的撞击点155， 偏移图例如可以例如涉及偏转角(α_x(t),α_y(t))，电子束23从其静止位置出来偏转 了所述偏转角。

所述或每个坩埚104可以例如布置在壳体102中，壳体则布置在真空腔室 224中。

在蒸镀区域224r中可以布置着和/或运输有待涂层的工件202，例如在蒸发 蒸发料期间进行。基底202例如可以具有板形的或带形的基底202或由其形成。

基底202可以位置固定地布置在涂层区域224r中。基底202备选可以沿着 涂层区域224r中的运输路径111p运输，例如借助运输装置。运输装置可以例如 具有多个运输辊282，运输辊接触基底。

电子束源112q与蒸发料和/或壳体102的间距可以例如处在约0.3m至约5 m的范围内，例如处在约1m至约2m之间的范围内。靶材例如在被照射和/或 蒸发期间可以备选或附加地布置在真空中。电子束源112q可以提供有好几千瓦 (kW)功率的电子束，例如有在约1kW至约1MW范围内的射束功率的电子束。

一个或多于一个的电子束枪122可以借助能量供应装置120被供电。能量 供应装置120可以例如提供电子束枪122的加速电压和/或阴极电流。加速电压 可以借助能量供应装置120的变压器提供。

按照不同的实施方式，腔室壳体224、例如所述或每个在腔室壳体内提供的 真空腔室224，可以被这样设置，使得其内可以提供在约10mbar至约1mbar 范围内的压力(换句话说粗真空)，或者提供更小的压力，例如在约1mbar至约 10^-3mbar范围内的压力(换句话说中真空)，或者更小的压力，例如在约10^-3mbar 至约10^-7mbar范围内的压力(换句话说高真空)，或者更小的压力，例如小于 高真空的压力，如小于约10^-7mbar的压力。为此，腔室壳体224可以被这样稳 定地设计，使得这个腔室壳体在泵出状态下承受空气压力的作用。

腔室壳体224、例如所述或每个在其内提供的真空腔室224，可以与供应装 置接合，如接下来还要更为准确地说明的那样。

图3A在示意性侧视图中或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供 应装置300(例如接下来的供应装置350)并且图3B在示意性俯视图300b中示 出了供应装置300。

供应装置300可以具有支架302，支架可以具有停放区域，例如第一停放区 域312和第二停放区域314。此外，供应装置300还具有一个或多于一个的钳锅 载体304用于运输各个蒸发钳锅。

若钳锅载体304布置在第一停放区域312中，那么这个钳锅载体可以进入 第一停放位置。若钳锅载体304布置在第二停放区域314中，那么这个钳锅载 体可以进入第二停放位置314p。也可以以类似的方式移动多于一个的钳锅载体 304。

支架302可以具有移动结构306，该移动结构被这样设置，使得钳锅载体 304可以在第一停放位置312p和第二停放位置314p之间移动301(也称为第一 次移动301)。

移动结构306和所述或每个钳锅载体304被这样相对彼此设置，使得钳锅 载体304以能相对支架302运动的方式被支承。它们可以例如具有一个或多于 一个的轴承元件，所述轴承元件相互交错地提供轴承。

移动结构306和所述的或每个钳锅载体304可以例如这样相对彼此设置， 使得钳锅载体304可以平放在移动结构306上移动和/或移动结构306例如沿着 移动路径301导引钳锅载体304的移动301。

移动路径301例如可以是线性的和/或平行于水平方向101、301。这简化了 结构设计。

移动结构306例如可以具有导引系统或可以由导引系统形成，例如一个或 多于一个的导轨或一个或多于一个的另外的导引元件(例如异型轨导引结构)。 移动结构306和/或钳锅载体304可以备选或附加地具有一个或多于一个的滚动 体(例如轮和/或辊)和/或一个或多于一个的滑动体。

所述或每个钳锅载体304可以例如具有带多个滚动体的底盘。

也可以使用其它轴承元件将钳锅载体304支承在移动结构306上。

移动结构306和/或钳锅载体304可选可以具有驱动器，该驱动器可以驱动 所述移动。驱动器可以例如是电气的驱动器(例如电动机)。

此外，移动结构306可以设置用于，将钳锅载体304移动303到运行位置 316p中支架旁(也称为第二次移动303)，例如从第一停放位置312p和/或第二 停放位置314p出来。运行位置316p可以例如布置在真空腔室224中。为此， 移动结构306可以朝着运行位置316p提供附加的移动路径303。

附加的移动路径303可以例如是线性的和/或平行于水平的方向101、301。 这简化了结构设计。

附加的移动路径303可以例如横向于移动路径301。

图4A在示意性侧视图中或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供 应装置400并且图4B在示意性俯视图400a中示出了供应装置300。

供应装置400可以如供应装置300那样设置，但区别在于，移动路径301 是弯曲的(例如圆弧形)。移动路径301可选可以平行于水平的方向101、301。

为此，移动结构306可以例如以能转动的方式被支承，例如借助转动轴承 402。

图5在示意性侧视图中或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供应 装置500。

供应装置500可以如供应装置300或400那样设置，区别在于，移动路径 301平行于垂直的方向105(或具有至少一个垂直的方向分量)。这实现了节省 空间的结构设计。

为此，移动结构306可以例如具有起重装置，该起重装置沿着移动路径301 移动钳锅载体304。

供应装置300至500也可以不同地设置，视所需的配置和主导的边缘条件 而定。移动结构306可以例如具有转盘和起重装置，以便在多个平面上提供停 放位置。转盘和/或起重装置备选或附加地可以分别提供多于两个的停放位置。

图6A在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供应 装置600，例如供应装置300至500中的其中一个供应装置。

供应装置600可以具有介质供应机构602，该介质供应机构设置用于，用一 种或多于一种介质提供供应。所述一种或多于一种的介质可以例如具有下列介 质类型中的其中一种：冷却流体(例如冷却气体和/或冷却液体)、信号线路和/ 或功率供应。

接下来为了更为简单地理解而参考冷却流体供应机构。介质供应机构602 可以例如具有至少一个冷却流体供应机构602或由其形成。

冷却流体供应机构602可以例如具有冷却流体源和/或冷却流体贮存器。冷 却流体供应机构602可选可以具有用于循环冷却流体的循环装置。因此可以例 如提供一个或多于一个的冷却回路。冷却流体供应机构602可选可以具有散热 片，例如换热器，或者至少与这个散热片耦合。

介质供应机构602可以具有供应接口602t和与该供应接口602t耦合的连接 结构602v。

连接结构602v可以具有一条或多于一条的冷却流体管路，例如一条或多于 一条的的气体管路和/或一条或多于一条的液体管路。

为了供应一种或多于一种的附加的介质类型，连接结构602v可选可以具有 一条或多于一条的相应的介质管路。连接结构602v可以例如具有一条或多于一 条的功率供应管路以供应钳锅载体304的驱动器。连接结构602v可选可以具有 一条或多于一条的信号线路以驱控钳锅载体304的或蒸发钳锅的传感器，如之 后还将更为详细地说明的那样。

连接结构602v可以这样设置，例如设置成柔韧的或设置成很长，从而使这 个连接结构在每个停放位置312p、314p和运行位置316p中可以与钳锅载体304 例如在这些位置之间移动期间无中断地连接和/或保持连接。

图6B在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式在带有 两个钳锅载体304、1304的配置600b中的供应装置600。

供应装置600b可以具有第一钳锅载体304，该第一钳锅载体在第一停放位 置312p或第二停放位置314p中。供应装置600b可以具有第二钳锅载体1304， 该第二钳锅载体则处在运行位置316p中。

连接结构602v可以这样设置，例如设置成柔韧的或很长的，使得当第一钳 锅载体在第一停放位置312p中或第二停放位置314p中或在这两个停放位置之 间例如无中断地移动时，这个连接结构与第一钳锅载体304连接。连接结构602v 可以为第一钳锅载体304提供第一冷却流体回路。

连接结构602v可以这样设置，例如设置成柔韧的或很长的，使得当第二钳 锅载体1304在运行位置316p中或第二停放位置314p中或在这两个位置之间例 如无中断地移动时，这个连接结构与第二钳锅载体1304连接。连接结构602v 可以为第二钳锅载体1304提供第二冷却流体回路。

图7A在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供应 装置700，例如供应装置300至600中的其中一个供应装置，并且图7B示出了 在转移700b时的供应装置700。供应装置700可以具有钳锅载体304、1304， 钳锅载体处在停放位置中，例如第一/第二停放位置312p或314p中。

钳锅载体304、1304可以具有移动机构702，借助移动机构以能转动的方式 支承多个滚动体702w。借助移动机构702可以例如承载蒸发钳锅，例如安放在 移动结构306上。移动机构702可以例如提供推车702或推车的一部分。

移动机构702可以便于移动进入运行位置316p或从这个运行位置移动出来 和/或提供了附加的移动路径303。

移动结构306备选或附加地具有一个或多于一个的底盘704。所述或每个底 盘704可以具有支承面704a，钳锅载体304、1304可以安放在该支承面上。支 承面704a可以具有一个或多于一个的导引元件(例如导引轮廓)，该导引元件 提供附加的移动路径303。所述或每个底盘704可以具有移动机构，借助移动机 构以能转动的方式支承多个滚动体704w。

移动结构306可选可以具有一个或多于一个的导引元件706(例如导引轮 廓)，底盘704可以安放在该导引元件上。所述一个或多于一个的导引元件706 可以提供移动路径303。

底盘704可以便于移动进入停放位置314p、312p或从这个停放位置移出和 /或提供移动路径301。

供应装置(参看图7B)可以具有钳锅载体304、1304，钳锅载体进入运行 位置中或从这个运行位置出来700B(也称为转移700b)，例如运行位置116p。

转移700b可以具有在支架302和真空腔室802之间转移钳锅载体304、1304。 为此，真空腔室802可以具有支承面802f，例如借助一个或多于一个的导引元 件提供，该导引元件与转移结构406的支承面704a齐平和/或处于齐平。

图8A在示意性侧视图中或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供 应装置800，例如供应装置300至700中的其中一个供应装置，并且图8B示出 了在转移800b时的供应装置800。

供应装置800可以具有钳锅载体304、1304，钳锅载体处在停放位置中，例 如停放位置312p或314p中。

钳锅载体304、1304可以具有腔室门802t，当供应装置800处在运行位置 116p中时，借助腔室门可以将真空腔室802中的与之匹配的腔室开口真空密封 地封闭起来。腔室门802t可以突出于移动机构702(例如沿着垂直的方向和/或 沿着水平的方向)。腔室门802t例如可以与腔室开口重叠，移动机构穿行通过腔 室开口。在面朝腔室开口的一侧上，腔室门802t可以具有密封面，借助密封面 真空密封地封闭真空腔室。密封面可以例如具有槽，密封圈置入所述槽中。

为了补偿因腔室门802t的超出高度引起的高度差，移动结构306可以具有 起重装置814，借助起重装置可以沿着垂直的方向移动支承面704a。在钳锅载 体304、1304移动进入运行位置中或者从运行位置移动出来时，可以借助起重 装置814将支承面704a带入到这样一个位置中，在该位置中，这个支承面704a 与真空腔室的支承面802f齐平。

图9A在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供应 装置900，例如供应装置300至800中的其中一个供应装置，并且图9B示出了 在转移900b时的供应装置900。

连接结构602v可以具有连接节点902，该连接节点固定在或至少与之位置 固定地设置在移动结构306上，例如该移动结构的底盘704上。连接结构602v 还可以具有(例如柔韧的)第一连接结构区段612a(例如链或类似物)，该第一 连接结构区段使供应接口602t与连接节点902耦合。连接结构602v还可以具有 (例如柔韧的)第二连接结构区段612b(例如链或类似物)，该第二连接结构区 段使钳锅载体304、1304(例如钳锅载体的腔室门802t)与连接节点902耦合。

借助第一连接结构区段612a可以例如可以追随钳锅载体304、1304的第一 次移动301进入停放位置312p、314p或从这个停放位置出来。借助第二连接结 构区段612p可以例如追随钳锅载体304、1304的第二次移动303进入运行位置 316p或从这个运行位置出来。这扩大了钳锅载体304、1304的活动余地。

图10在示意性俯视图中示出了按照不同的实施方式的处理装置1000。

处理装置可以具有真空装置200和供应装置350，例如供应装置300至900 中的其中一个供应装置。

处理装置1000可以具有真空腔室802，在所述真空腔室内布置着涂层室 224r。真空腔室224可具有一个或多于一个的真空泵804(例如，初级真空泵和 /或高级真空泵)以在真空腔室224内部和/或涂层室224r中提供真空。

处理装置300a还可以具有多个电子束枪122，所述电子束枪设置用于在撞 击区域224a中照射蒸发料。

供应接口602t(也称为介质馈入点)可以设置成相对真空腔室802和/或支 架302位置固定。

在所述或每个停放位置312p、314p中，第一钳锅载体304和/或第二钳锅载 体1304可以与真空腔室802具有间距1001a。所述间距1001a可以例如处在约0.5m至约1m的范围内。间距1001a可以例如考虑到了真空腔室802的不规则 的外轮廓。

移动结构306可选可以提供转移位置318p。第二次移动303可以例如在转 移位置318p和运行位置316p之间进行。第一次移动301可以例如在转移位置 318p和一个或多于一个的停放位置312p、314p之间进行。

第一次移动301可以例如将蒸发钳锅104移动了在约1m至约10m范围内、 例如在约4.5m至约4.8m范围内的一段路程1001d。

图11在示意性侧视图或横截面视图中示出了按照不同的实施方式的供应装 置350。

供应装置350可以具有钳锅载体304、1304和借助所述钳锅载体304、1304 承载的钳锅装置100。

连接节点902可以具有真空套管结构，该真空套管结构例如延伸穿过腔室 门802t。真空套管结构可以具有一个或多于一个的真空套管，这些真空套管中 的每个真空套管配设给由介质供应机构602提供的介质类型。真空套管结构可 以例如具有一个或多于一个的冷却流体真空套管、一个或多于一个的信号真空 套管和/或一个或多于一个的功率真空套管或者由其形成。

真空套管结构的每个真空套管可以在腔室门802t的外侧上(背对蒸发钳锅) 具有相应的介质类型接头(例如冷却流体接头、电接头等)，第二连接结构区段 612p可以联接在所述接头上。

例如可以借助连接节点902(例如真空套管结构)将气体供应结构110与供 应接口602t导引气体地耦合。冷却结构1104备选或附加地可以借助连接节点 902(例如真空套管结构)与供应接口602t导引液体地耦合。

传感器装置1106(例如具有至少一个压力传感器和/或温度传感器)可选可 以借助连接节点902(例如真空套管结构)与供应接口602t导引信号地耦合。 移动机构702的驱动装置1102(例如可以具有至少一个电马达)可选可以借助 连接节点902与供应接口602t电耦合。驱动装置1102可以例如提供了相对移动 结构306的底盘704的移动。

介质供应机构602(例如该介质供应机构的冷却流体供应机构)可以设置用 于，用冷却流体、例如冷却液体和/或冷却气体同时供应多个钳锅载体304、1304。 介质供应机构602(例如该介质供应机构的信号供应机构)可选可以设置用于， 用信号、例如控制信号同时供应多个钳锅载体304、1304。介质供应机构602(例 如该介质供应机构的功率供应机构)可选可以设置用于，用电功率、例如功率 电流同时供应多个钳锅载体304、1304。

多个钳锅载体304、1304可以具有两个、三个、四个、五个、六个、七个、 八个、九个、十个或多于十个的钳锅载体304、1304。

当多个钳锅载体布置在不同的位置中时，这些位置中至少一个位置是运行 位置，可选一个位置是转移位置并且其余的位置是停放位置时，可以同时供应 多个钳锅载体304、1304。

当多个钳锅载体304、1304中的一个或多于一个的钳锅载体304、1304在 其位置中改变时，例如在运行位置和转移位置之间、运行位置和停放位置之间 和/或转移位置和停放位置之间移动时，可以同时供应多个钳锅载体304、1304。

因此显然可以提供一种蒸发坩埚104，其可以借助坩埚载体304、1304被连 续地供应至少冷却流体。这使得可以将蒸发坩埚104在仍然热的状态下从真空 腔室802中取出，并将在真空腔室802外部冷却。

蒸发钳锅104显然可以借助冷却气体埋置在一个气垫中，从而使这个蒸发 钳锅借助气垫而与其周围环境(例如空气)分离。冷却气体为此可以例如具有 惰性气体，如氩气、氮气或另一种反应缓慢的气体。冷却气体例如可以不含氧 气。

所述气垫例如可以在壳体内室102i中提供。因为壳体102阻止了气体从气 垫流出，所以这使得能够消耗较少的气体。也可以以其它方式提供气垫。

换句话说，可以在坩埚104周围形成气垫，该气垫布置在真空中。气垫可 以借助壳体与真空气体分离。气垫备选能以另一种方式与其内布置有坩埚的真 空气体分离。

图12在示意性流程图中示出了用于运行供应装置、例如供应装置350、300 至900中的其中一个供应装置的方法1200。

方法1200可以具有：在1201中，在真空腔室内将布置在第一蒸发钳锅内 的蒸发料加热到一个温度，在该温度下，蒸发料转为气相，在1203中，在蒸发 料冷却到低于所述温度一半之前，将第一蒸发钳锅从真空腔室移出并且将第二 蒸发钳锅移入真空腔室，在1205中，借助(例如流动的)冷却流体和/或冷却流 体回路在移动期间和/或真空腔室外(例如在将蒸发料从第二蒸发钳锅蒸发出来 期间)冷却第一蒸发钳锅。

加热可以借助一个或多于一个的电子束完成。

加热1201可以具有，将蒸发料或蒸发料的一部分加热到一个大于1500℃的 温度(例如大于约2000℃、例如大于约2500℃、例如大于约3000℃)。

加热1201可选可以具有：借助一个或多于一个的电子束热蒸发布置在第一 蒸发钳锅和/或第二蒸发钳锅中的蒸发料；可选用蒸发料对基底涂层，其中，例 如在高真空中进行热蒸发。

所述方法1200可以具有：在1203中，将第一蒸发钳锅埋置到气垫中，气 垫将第一蒸发钳锅与包围该第一蒸发钳锅的真空分离。所述气垫可以借助冷却 气体形成和/或环流第一蒸发钳锅。

所述方法1200可选可以具有：在1203中，将埋置在气垫中的第一蒸发钳 锅从真空或真空腔室移出。

所述方法1200可选可以具有：用蒸发的蒸发料对基底涂层。

所述方法1200可选可以按照一个蒸发周期进行，该蒸发周期在第一阶段中 (也称为涂层阶段)具有热蒸发和涂层，并且该蒸发周期在第二阶段中(也称 为保养阶段)具有，将蒸发料(和例如钳锅)埋置到(例如至少轻微流动的) 气垫(有大于高真空的压力)中并且借助气垫在真空腔室外冷却蒸发料。第一 蒸发钳锅和第二蒸发钳锅可以按照一个蒸发周期处理，例如以推挽方式。

接下来说明涉及到之前所说明的内容和附图中所示出的内容的示例。

例1是一种供应装置，其具有：两个或多于两个的用于运输各一个蒸发钳 锅的钳锅载体；支架，该支架具有至少一个停放区域和移动结构，其中，移动 结构设置用于在支架上移动两个或多于两个的蒸发钳锅(例如第一蒸发钳锅和 第二蒸发钳锅)，使得所述两个或多于两个的蒸发钳锅能同时被带到(例如布置 在)至少一个停放区域中的停放位置中和(例如从停放位置出来地)交替地带 到真空腔室内和/或支架旁的运行位置中；冷却流体供应机构，该冷却流体供应 机构设置用于，当从停放位置移动进入运行位置时，同时为两个或两个以上的 钳锅载体供应冷却流体。为了将两个钳锅载体带入相应的停放位置，这两个钳 锅载体可以例如同时和/或相继地移动，例如从运行位置移出和/或移入运行位置 中。

例2是按例1的供应装置，其中，冷却流体供应机构还设置用于，当两个 或多于两个的钳锅载体中的每个钳锅载体处在停放位置中时，同时用冷却流体 供应两个或两个以上的钳锅载体，其中，冷却流体供应机构例如设置用于，当 两个或两个以上的钳锅载体的第一和/或第二钳锅载体处在停放位置中时，用第 一冷却流体供应第一钳锅载体并且与之同时用第二冷却流体供应第二钳锅载 体。

例3是按照例1或2的供应装置，其中，冷却流体供应机构设置用于，借 助冷却流体提供至少两个单独的冷却回路(例如为第一钳锅载体提供第一冷却 回路以及为第二钳锅载体提供第二冷却回路)。

例4是按例1至3中任一个的供应装置，其中，两个或两个以上的钳锅载 体中的至少一个(例如每个)钳锅载体具有带有环绕的密封面的腔室门；其中， 第一钳锅载体例如具有带有环绕的第一密封面的第一腔室门；和/或其中，第二 钳锅载体例如具有带有环绕的第二密封面的第二腔室门。

例5是按照例4的供应装置，其中，两个或两个以上的钳锅载体的每个腔 室门具有用于联接冷却流体供应机构的冷却流体结构；其中，第一腔室门例如 具有用于联接冷却流体供应机构的第一冷却流体接头；和/或其中，第二腔室门 例如具有用于联接冷却流体供应机构的第二冷却流体接头。

例6是按照例1至5中任一个的供应装置，两个或两个以上的钳锅载体中 的至少一个或每个钳锅载体还具有：钳锅壳体，该钳锅壳体提供空腔以容纳蒸 发钳锅。

例7是按例6的供应装置，其中，钳锅壳体具有气体供应结构，该气体供 应结构布置在钳锅壳体中，并且该气体供应结构设置用于与冷却流体供应机构 耦合。

例8是按例7的供应装置，其中，冷却流体接头布置在腔室门的与密封面 对置的侧面上；其中，第一冷却流体接头例如布置在第一腔室门的与第一密封 面对置的侧面上；和/或其中，第二冷却流体接头例如布置在第二腔室门的与第 二密封面对置的侧面上。

例9是按例1至8中任一个的供应装置350，其中，两个或两个以上的钳锅 载体的至少一个(例如每个)钳锅载体具有移动机构；其中，第一钳锅载体例 如具有第一移动机构；和/或其中，第二钳锅载体例如具有与第一移动机构不同 的第二移动机构。

例10是按例1至9中任一个的供应装置，其中，移动结构具有多个移动路 径，可以沿所述移动路径完成在停放位置和运行位置之间的移动。

例11是按例10的供应装置，其中，移动结构还具有导引系统(例如轨道 系统)，其提供多个移动路径。

例12是按例1至11中任一个的供应装置，其中，移动结构具有用于调整 垂直的位置的起重装置，在垂直的位置中进行在停放位置和运行位置之间的移 动。

例13是按例1至12中任一个的供应装置，其中，冷却流体供应机构设置 用于，同时用附加的冷却流体供应两个或两个以上的钳锅载体，附加的冷却流 体不同于所述冷却流体(例如在凝聚态中)。

例14是按例1至13中任一个的供应装置，其中，移动结构还具有：至少 一个(这就是说一个或多于一个)用于运输两个或多于两个的钳锅载体中的每 个钳锅载体的底盘；例如用于将第一钳锅载体运输到第一容纳区域中和/或从这 个容纳区域运输出来的第一底盘和例如用于将第二钳锅载体运输到第二容纳区 域中和/或从这个容纳区域运输出来的第二底盘。

例15是按例14的供应装置，其中，至少一个底盘具有用于调整运输高度 的起重装置。

例16是按例9或15所述的供应装置，其中，至少一个底盘(例如第一底 盘和/或第二底盘)具有用于驱动运输的驱动装置。

例17是按照例1至16中任一个的供应装置，其中，至少一个停放区域具 有多个(例如彼此间隔布置的)停放区域，其中，移动结构被这样设置，使得 两个或两个以上的钳锅载体可以在它们的停放位置中在多个停放区域之间相互 替换。

例18是按照例1至17中任一个的供应装置，其中，两个或两个以上的钳 锅载体中的至少一个(一个或多于一个)钳锅载体具有压力传感器，该压力传 感器与冷却流体供应机构耦合；其中，冷却流体供应机构设置用于，借助压力 传感器控制和/或调节用冷却流体和/或附加的冷却流体的供应。

例19是按照例1至18中任一个的供应装置，其中，冷却流体供应机构具 有供应接口和与该供应接口耦合的冷却流体管路，其中，供应接口例如设置成 相对至少一个停放区域位置固定；并且其中，冷却流体管路例如设置用于，选 择性地将冷却流体输送给停放位置和运行位置。

例20是供应装置，例如按照例1至19中任一个的供应装置，其具有：支 架，该支架具有移动结构和至少一个停放区域，其中，至少一个停放区域提供 多个停放位置；其中，这样来设置移动结构，使蒸发钳锅可以在支架上在多个 停放位置中的每个停放位置和真空腔室内的运行位置之间移动；冷却流体供应 机构，该冷却流体供应机构具有供应接口和与该供应接口耦合的冷却流体管路， 其中，供应接口设置成相对至少一个停放区域位置固定；并且其中，冷却流体 管路设置用于，选择性地将冷却流体输送给多个停放位置中的每个停放位置和 每个运行位置。

例21是供应装置，例如按照例1至20中任一个的供应装置，其中，两个 钳锅载体中的一个或多于一个的(例如每个)钳锅载体具有连接节点(例如真 空套管结构，例如具有冷却流体真空套管)，其中，连接节点优选具有用于联接 冷却流体供应机构的冷却流体接头和/或用于联接借助钳锅载体运输的蒸发钳锅 的第二冷却流体接头，其中，第一冷却流体接头和第二冷却流体接头例如布置 在连接节点的彼此对置的侧面上；其中，第一冷却流体接头和第二冷却流体例 如借助真空套管结构(例如冷却流体真空套管)彼此导引流体地连接。

例22是处理装置，具有：按照例1至21中任一个的供应装置，真空腔室， 其中，真空腔室具有腔室开口，移动结构(例如该移动结构的运输路径)通入 该腔室开口。

例23是一种方法，例如用于运行按照例1至21中任一个的供应装置的方 法，具有：将布置在第一蒸发钳锅中的蒸发料在真空腔室内加热到一个温度， 在该温度下，蒸发料转为气相；在蒸发料冷却到低于所述温度的一半之前，将 第一蒸发钳锅从真空腔室(例如在钳锅载体上)移出并且将第二蒸发钳锅移入 到真空腔室中；借助冷却流体在移动期间冷却第一蒸发钳锅，其中，冷却流体 例如输送给钳锅载体。若蒸发钳锅例如是石墨钳锅，那么这个蒸发钳锅可以间 接用冷却流体冷却，因而这个蒸发钳锅不承受过大的由热引起的应力。冷却例 如间接地以如下方式进行，使得蒸发钳锅将热量/热辐射排出到包围该蒸发钳锅的保护气体，所述保护气体布置在钳锅壳体中，其中，钳锅壳体被冷却流体穿 流。可选也在蒸发钳锅的周围环境中的其它构件上进行热辐射的排出。若蒸发 钳锅例如是铜钳锅，那么这个蒸发钳锅可以例如以如下方式直接用冷却流体冷 却，即，铜钳锅被冷却流体穿流。因此能将蒸发钳锅的温度保持得尽可能低， 例如保持在铜的熔点之下。