用于镀膜机的离子源

文档序号:629290 发布日期:2021-05-11 浏览:7次 >En<

阅读说明:本技术 用于镀膜机的离子源 (Ion source for film plating machine ) 是由 唐洪波 黄乐 孙桂红 黄国兴 祝海生 于 2019-11-08 设计创作,主要内容包括:本发明提供了用于镀膜机的离子源,包括本体、限位柱和调节板,限位柱固定连接在本体的顶部,调节板一端设有安装孔,另一端开设有多个弧形孔,不位于本体顶部的中心,镀膜机的壳体的顶面设有通孔,限位柱穿过壳体顶面的通孔后再穿过调节板的安装孔。本发明的离子源本体和安装柱通过铰接杆铰接,离子源本体可根据安装需要转动,可根据限位杆的位置和移动判断离子源本体的位置和移动,在调节板的弧形孔中插入限位杆可限制本体的移动范围。(The invention provides an ion source for a film plating machine, which comprises a body, a limiting column and a regulating plate, wherein the limiting column is fixedly connected to the top of the body, one end of the regulating plate is provided with a mounting hole, the other end of the regulating plate is provided with a plurality of arc-shaped holes which are not positioned in the center of the top of the body, the top surface of a shell of the film plating machine is provided with a through hole, and the limiting column penetrates through the through hole on the top surface of the shell and then penetrates through. The ion source body and the mounting column are hinged through the hinge rod, the ion source body can rotate according to mounting requirements, the position and the movement of the ion source body can be judged according to the position and the movement of the limiting rod, and the limiting rod is inserted into the arc-shaped hole of the adjusting plate to limit the movement range of the body.)

用于镀膜机的离子源

技术领域

本发明涉及镀膜生产技术领域,具体为用于镀膜机的离子源。

背景技术

离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。离子源类型虽多,在镀膜工艺中,离子源的目的主要为在线清洗,改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度,同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。

在镀膜生产线中,离子源需要安装在生产线上相应腔室的壳体上,以按照设计方向和位置引出离子束流。然而,生产线中的待镀膜的基片是处于或移动或静止状态,在镀不同的膜或在不同的工艺条件下时,需要改变引出的离子束流的方向或角度,以满足镀膜厚度和其它要求。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题,本发明的目的是提供用于镀膜机的离子源,离子源本体和安装柱通过铰接杆铰接,离子源本体可根据安装需要转动,可根据限位杆的位置和移动判断离子源本体的位置和移动,在调节板的弧形孔中插入限位杆可限制本体的移动范围。

为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案是:

用于镀膜机的离子源,包括本体、限位柱和调节板,限位柱固定连接在本体的顶部,调节板一端设有安装孔,另一端开设有多个弧形孔,不位于本体顶部的中心,镀膜机的壳体的顶面设有通孔,限位柱穿过壳体顶面的通孔后再穿过调节板的安装孔。

作为上述技术方案的进一步改进:

所述离子源还包括永磁体、电磁线圈、靶材和电信号输出装置,永磁体、电磁线圈、靶材和电信号输出装置位于本体内部。

本体为长方体形状,本体一面上设有通孔,供轰击靶材生成的原子、分子、离子等微粒束流通过。

本体的与设有通孔一面相邻的两个侧面上设有多个安装销和安装螺丝。

永磁体、靶材和电信号输出装置设置在一安装座上,安装座位于本体内部,安装座通过多个安装销和安装螺丝与本体连接。

多个安装销和安装螺丝均匀间隔布置,安装销和安装螺丝交替布置。

本体的与设有通孔一面相对的侧面上设有两个安装柱和两个铰接杆,两个安装柱分别设在本体的两端且相对本体的中心对称布置,安装柱为中空的,安装柱内设有铰接杆,铰接杆的一端伸出安装柱后铰接本体,另一端伸出中空安装柱的另一端。

限位柱位于顶部的边缘。

限位柱表面开设有外螺纹,调节板的所述安装孔内开设有内螺纹,限位柱和调节板通过螺纹连接。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:离子源本体和安装柱通过铰接杆铰接,离子源本体可根据安装需要转动,限位杆位于镀膜机壳体外部,可根据限位杆的位置和移动判断离子源本体的位置和移动,在调节板的弧形孔中插入限位杆可限制调节板的移动范围,从而限制本体的移动范围。

附图说明

图1为本发明一个实施例的结构示意图;

图2为本发明一个实施例的安装在镀膜机壳体的结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明提供的用于镀膜机的离子源作进一步详细、完整地说明。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。

用于镀膜机的离子源,如图1~图2所示,包括本体1、永磁体、电磁线圈、靶材和电信号输出装置,永磁体、电磁线圈、靶材和电信号输出装置位于本体1内部,本体1一面上设有通孔,供轰击靶材生成的原子、分子、离子等微粒束流通过。电磁线圈围绕在永磁体外部,电磁线圈为导电线圈,连接外部电源,电磁线圈通电后,永磁体生成磁场,引导带电的离子束流朝设定的方向移动。换句话说,可以根据需要改变带电粒子束流的运行方向。镀膜生产线镀膜的时候,需要离子源生成并引导带电离子束流轰击靶材,以使靶材在待镀膜的基材表面沉积,完成镀膜。

本实施例中,本体1为长方体形状,本体1的一面设有通孔。

本实施例中,本体1的与设有通孔一面相邻的两个侧面上设有多个安装销2和安装螺丝8。具体的,永磁体、靶材和电信号输出装置设置在一安装座上,安装座位于本体1内部,安装座通过多个安装销2和安装螺丝8与本体1连接。多个安装销2和安装螺丝8均匀间隔布置,安装销2和安装螺丝8交替布置,安装销2便于将安装座定位,安装螺丝8对定位后的安装座固定连接在本体1上。

永磁体、靶材和电信号输出装置不是固定连接在本体1内部,原因如下,在运行过程中,安装座可稳定的连接在本体1上,即永磁体、靶材和电信号输出装置稳定的设置在本体1内部。同时,拆卸安装销2和安装螺丝8后,安装座可从本体1内部取出,便于检修和更换内部部件。若永磁体、靶材和电信号输出装置固定连接在本体1内部,则显然不便于检修,只能带上壳体9的整个结构进行替换,不利于节约资源和降低成本。因此,安装销2和安装螺丝8从壳体9外进行安装和拆卸。

本实施例中,本体1的与设有通孔一面相对的侧面上设有两个安装柱3和两个铰接杆7。两个安装柱3分别设在本体1的两端且相对本体1的中心对称布置。安装柱3为中空的,安装柱3内设有铰接杆7,即铰接杆7穿过安装柱3,铰接杆7的一端伸出安装柱3后铰接本体1,另一端伸出中空安装柱3的另一端。使用时,安装柱11安装在镀膜机的壳体9上且穿过镀膜机的壳体9。安装柱3和铰接杆7的配合是为了便于检修,检修时,只需解除铰接杆7和本体1的铰接,取下铰接杆7,无需操作安装柱3,避免频繁操作安装柱3时,影响安装柱3与本体1之间的密封性。铰接杆7与本体1的具体铰接方式为本领域技术人员所熟知的技术,在此不再赘述。需要说明的是,铰接杆7和安装柱3之间设有密封棉或密封胶,防止外部杂物通过铰接杆7和安装柱3之间的间隙进入镀膜机内部。

由上可知,本体1可通过铰接杆7的铰接和安装柱3发生相对转动,转动方向和本体1的长度方向垂直,转动范围为180°

本实施例中,所述镀膜机还包括限位柱5和调节板4。限位柱5固定连接在本体1的顶部,不位于本体1顶部的中心,较佳的,限位柱5位于顶部的边缘。如此设置,当本体1转动时,限位柱5可发生非自转的运动。调节板4一端设有安装孔,另一端开设有多个弧形孔6,限位柱5穿过安装孔、和限位柱5固定连接。较佳的,限位柱5表面开设有外螺纹,调节板4的所述安装孔内开设有内螺纹,限位柱5和调节板4通过螺纹连接。由上可知,当本体1转动时,调节板4和本体1共运动。

使用时,本体1安装在镀膜机的壳体9上,如图1所示,壳体9的顶面设有通孔,限位柱5穿过壳体9顶面的通孔后再穿过调节板4的安装孔,换句话说,本体1安装在镀膜机的壳体9内,调节板4安装在镀膜机的壳体9外。如此安装便于在壳体9外部通过调节板4的位置和移动来判断本体1的位置和移动,并可对本体1的移动范围进行调节。具体的,在壳体9上活动设有多个限位杆,限位杆根据需要活动的插入调节板4的弧形孔6中,以限制调节板4的移动范围,从而限制本体1的移动范围。

本发明的具体工作过程如下:将本体1安装在镀膜机的壳体9内部,使安装柱穿过壳体9,同时本体1的电源接线端位于壳体9外部,限位柱5穿过壳体9的上面,然后将调节板4插入限位柱5中,具体的,限位柱5穿过调节板4的安装孔,离子源运行过程中,通过调节板4的位置可判断壳体9内部本体1的位置,需要调节本体1的方向、位置和转动方向等时,在弧形孔6内插入限位杆,具体的,限位杆一端插在壳体9顶面的插槽内,另一端悬伸设置。

最后有必要在此说明的是:以上实施例只用于对本发明的技术方案作进一步详细地说明,不能理解为对本发明保护范围的限制,本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。

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